改訂履歴：　2009/04/30　初版

1. まずは、ピクセルマスクを操作します。
   練習用にファイルを用意します。
   ここでは、背景の他に２つのレイヤーがある用意しました。
   
   
   
   
2. 適当な選択範囲を作成します。
   
   
   
   
3. マスクパネルを開き、［ピクセルマスクを追加］をクリックします。
   
   
   
   
4. レイヤーにマスクが作成されて、下になっているレイヤーが見えるようになります。
   レイヤーパネルには、マスクのサムネールがあります（「」の四角い枠は、編集可能状態であることを示します）。
   なお、１度クリックされた追加ボタンは、以降、選択ボタンとして機能します。
   
   
   
   
5. 描画色を白色にして、ブラシツールで画像をドラッグします。マスクが編集されて、その部分だけ、画像が見えてきます。
   
   
   
   
6. マスクパネルで、「濃度」や「ぼかし」を調整すると、マスクの適用具合を変更できます。
   
   
   
   
7. マスクを削除する場合は、レイヤーパネルのマスクのサムネール部分を、「レイヤーを削除」にドラッグ＆ドロップします（削除時には、マスクを画像に適用してしまうかどうか聞いてきます）。
   
   
   が作成されますが、この時点では画像自体には変化がありません
   
   

1. 次はベクトルマスクを使用してみます。
   先ほどと同様の練習ファイルを用意し、マスクパネルで「ベクトルマスクを追加」をクリックします。
   マスクが作成されますが、この時点では画像自体には変化がありません。
   
   
   
   
   
   
2. 描画色を白色にし、カスタムシェイプツール（）で、「パス」と適当な図形（オプションバーで選択できます）を指定して、図を描きます。
   
   
   
   
3. 図形の形に抜きができます。
   なお、濃度やぼかし、削除方法はレイヤーマスクと同じです（ただし、削除前に画像に適用することはできません）。
   
   
   
   
   
   

   ヒント１：ピクセルマスクとベクトルマスクは両方同じレイヤーに使うことができます。

   ピクセルマスクとベクトルマスクのある画像

   ヒント２：マスクサムネールをShiftキーを押しながらクリックすると、一時的に非表示にてきます。